有DVD涂层处理吗

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今天办事看到一台湾模具厂表面DVD超硬涂层处理，表面为金黄色。是PVD处理吗？还是台湾与国内说法差异？

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是纸板箱上的文字印刷错误，应该是PVD。

孤鸿踏雪

化学气相沉积（CVD）  
     化学气相沉积常以CVD（Chemical  Voper  Deposition）表示，是由德国人Dr•W•RuPPer开发的，它是在高温（900～1200℃）低压下，利用化学反应由气相中析出纯金属、碳化物、氮化物、硼化物、硅化物和氧化物等固体物质沉积在工件表面的成膜方法。一般把反应物是气体而生成物之一是固体的反应称为CVD反应。利用化学气相沉积可在工件表面沉积超硬物质TiC、TiN薄膜等。

物理气相沉积（PVD）                     物理气相沉积（Physical vapor deposition的缩写）是在真空加热条件下，利用元素蒸发、辉光放电、弧光放电、离子溅射等物理方法提供活性原子、离子，使工件表面沉积特种性能化合物层的工艺，是真空蒸镀、溅射镀和离子镀等用物理方法形成覆层的方法的总称。其中之一的ARE法（活性反应蒸镀法），一般在200～600℃的较低温度下进行，是介于离子轰击热处理和电镀之间的处理方法。在添加C2H2、N2的真空（10-4Torr左右）条件下进行的碳化物被覆处理时主要形成TiC和TiN覆层。

等离子化学气相沉积（Plasma  CVD）
      缩称PCVD，是借助于气体辉光放电产生的低温等离子体（非热平衡等离子体），使反应物质在低温（500℃左右，接近物理气相沉积温度）时具有高的化学活性，大大降低化学反应温度，在工件上形成牢固的、质量良好的薄膜（沉积层）。
      PCVD是在CVD基础上发展起来的，较CVD有如下优点：
      （1）可以低温成膜，对基材影响小，可以避免高温成膜引起的晶粒粗化；
      （2）PCVD通常在较低压力（较高真空）下进行，由于反应中的分子、原子、等离子粒团与电子之间的碰撞、散射、电离等作用，提高了沉积层厚度及成分均匀性，得到的沉积层针孔小，内应力小，不易产生微裂纹；
      （3）等离子体对工件及沉积层具有清洗作用，提高了沉积层对基体的附着力；
      （4）扩大了化学气相沉积的应用范围，特别是提供了在不同材质的基体上制取各种沉积层，非晶态无机物膜、有机聚合膜的特性；
      （5）PCVD具有CVD的良好绕镀性和PVD低温沉积的特点，更适于模具工作零件的表面强化。
      PCVD等离子体中化学反应十分复杂，许多因素交互影响，其反应机理、反应动力、反应过程目前尚不十分清楚，但其应用日益广泛，新的工艺方法不断出现，如光PCVD、电子回旋共振等离子沉积等。目前国内在金属材料耐磨沉积层的研究方面，主要集中在TiC、TiN沉积设备及工艺探讨上。

草原的风

估计印刷厂的业务人员对DVD太熟悉了，潜意识里把CVD或PVD当做DVD了，哈哈，知足吧，没有印刷成为VCD就偷摸乐得了。
VCD
DVD
CVD
PVD
TD
TMD
…………
简称真要命！

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CVD和PCVD都用于切削刀片的表面涂层，刀片涂层后的寿命明显增加。

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这种涂层工艺应用非常广，除了刀具、模具之外，还有用来做装饰涂层，可以呈现漂亮的颜色，还耐腐蚀、耐磨。