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真空热处理炉缺陷的分析及措施

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发表于 2015-7-25 12:44:01 | 显示全部楼层 |阅读模式
真空热处理技术广泛应用于宇航、电子、精密机械。在模具的生产中有普通热处理不可比拟的突出优点,因为真空热处理具有工件表面不氧化,不脱碳,表面光亮;具有除气、净化作用,能提高材料的纯度,同时提高了材料的疲劳强度、塑性和韧性、耐腐蚀性;处理的工件无氢脆危险,有效防止钛和难熔金属的表面脆化;淬火变形小;具有可靠的热处理工艺的稳定性重复性好;操作安全;自动化程度高;工作环境好;无污染公害。随着科技的发展,现代化真空热处理技术也得到迅猛发展,在国际上有迹象表明,未来的金属表面工程将更多依赖真空热处理技术和等离子体技术,前途十分广阔。缺陷的分析及措施:
真空热处理技术属于光亮热处理。正常情况下,热处理后的工件表面应保持热处理前的金属光泽,真空热处理缺陷会影响工件热处理后的表面机械性能。
针对真空热处理缺陷所出现的具体问题,例如合金模具钢淬回火中、某产品高弹合金的真空时效中、不锈钢、钼、钛、钨等材料的真空退火中出现的氧化、硬度不均、粘连;无线电、自动控制中广泛用的灵敏的继电器、磁性放大元件的高导磁合金1J79( 坡莫合金) 4J36 等导磁率达不到设计要求等。经过许多试验和研究,在此不能把所有试验列举出来,只是把许多试验归纳总结,作以下几大类的分析。使用的设备为二台: 1) 464 坑式真空炉,采用24 组钨丝电加热,容积为300 mm × 600 mm,真空度为5 × 10 - 5Pa,功率为68 W,温度1300 ℃;2) 30-13 气氛保护真空淬火炉,采用石墨布加热,最大装载15 kg,温度1300 ℃,功率为30 kW,真空度为7 × 10 -3 Pa
1、真空热处理出现氧化的分析
在淬火、回火、退火过程中易出现以下缺陷。在不同温度中会出现氧化膜,颜色如表1 所示。
真空热处理炉缺陷的分析及措施
总体来讲,影响真空热处理表面光亮的氧化原因有许多,其中工件、工艺、设备三大因素是主要因素。三大因素进行归纳分析如下。
1.1、工件
1) 材质: 含有氧亲和力强的元素如AlTiSiCrV 等和含有蒸汽气压高的元素MnZnCr 等。
2) 工件表面有污物,如水、油、氧化物。形态质量大的整体件、板材、管状零件。
1.2、工艺
温度在800 1200 ℃ 固溶处理、400 600 ℃时效。辅助工序: 零件的清洗,清洗介质,干燥效果,环境气氛,装炉条件等。
1.3、设备
真空泵能力不足,管道漏,加热材料或加热室已被污染。冷却系统、冷却介质不纯,含有水分,冷却不均匀和冷却能力不足。真空炉漏气,一般应保持一定的压升率,不低于1.33 Pa /h。采用高纯的气体,保护气氛具有还原性。真空热处理出炉的炉温对光亮度有显著的影响,如果在500 300 ℃出炉时氧化剧烈,试样表面的状态和光亮度都显著下降,应在200 ℃ 以下出炉,工件的光亮度就可超过70%
另外,真空炉内的加热室存在弱氧化气氛也会引起表面的氧化,应引起大家的注意,我们作了对真空炉内抽真空5 min 和抽真空40 min 后炉内残余气氛的光谱分析对比
4、结论
生产中所出现的真空热处理缺陷,结合科学合理的分析,对氧化、粘连和不同炉体对导磁性的影响,分析出缺陷因素和变化的规律及长时间工作经验积累的解决措施,具有很好的实用效果,通过试验得出,不同加热材料的真空炉,对导磁率有一定的影响。不同材料的处理对真空炉要求也是不一样的。

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